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MPCVD钼基片台是微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)常用的沉积基板。沉积基板在微波等离子体化学气相沉积的整套反应中，起到承载化学气相沉积反应物的作用。MPCVD方法已成为稳定生长纯度高、均匀性强、大尺寸的金刚石颗粒和金刚石膜的主流制备技术，由CH4与H2等多种气体经过放电、等离子化，最后沉积到基板形成金刚石颗粒或金刚石膜。
